有机膜表面羟基化工艺研究
DOI:
CSTR:
作者:
作者单位:

长春理工大学物理学院

作者简介:

通讯作者:

中图分类号:

O647.2

基金项目:

国家自然科学基金(11874091)


Research on hydroxylation process on the surface of organic films
Author:
Affiliation:

Fund Project:

The National Natural Science Foundation of China (Grant No. 11874091)

  • 摘要
  • |
  • 图/表
  • |
  • 访问统计
  • |
  • 参考文献
  • |
  • 相似文献
  • |
  • 引证文献
  • |
  • 资源附件
  • |
  • 文章评论
    摘要:

    柔性有机膜作为重要的功能材料,在电子器件、封装等许多邻域都有广泛的应用。然而,一些有机膜存在亲水性不足、生物相容性差、化学反应活性低等缺点,通过表面处理等方法引入羟基官能团可以增加有机膜的亲水性,改善有机膜的性质和功能,使其更适用于各种应用领域。本文对柔性有机膜表面进行了干法和湿法羟基化处理,研究羟基化工艺对有机膜亲水性的影响。结果表明,随着湿法羟基化处理时间和温度的增加,有机膜表面水接触角先减小后基本保持不变,随着等离子体处理时间增加,有机膜表面水接触角先减小后增大,同时干法羟基化处理比湿法羟基化处理的表面水接触角低约20°,有机衬底亲水性更好,缩短了处理时间。

    Abstract:

    Flexible organic films are important functional materials with wide applications in many areas such as electronic devices and packaging. However, some organic films have shortcomings such as insufficient hydrophilicity, poor biocompatibility, and low chemical reactivity. Introducing hydroxyl functional groups through surface treatments can enhance the hydrophilicity of organic films, improve their properties and functions, making them more suitable for various application fields. This study conducted dry and wet hydroxylation treatments on the surface of flexible organic films, investigating the impact of hydroxylation processes on the hydrophilicity of the films. The results indicate that with increasing wet hydroxylation treatment time and temperature, the water contact angle on the organic film surface initially decreases and then stabilizes, while with plasma treatment time, the water contact angle first decreases and then increases. Additionally, the water contact angle of the surface treated with dry hydroxylation is approximately 20° lower than that treated with wet hydroxylation, resulting in better hydrophilicity of the organic substrate and shorter processing time.

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文
分享
文章指标
  • 点击次数:
  • 下载次数:
  • HTML阅读次数:
  • 引用次数:
历史
  • 收稿日期:2024-02-23
  • 最后修改日期:2024-02-23
  • 录用日期:2024-03-29
  • 在线发布日期:
  • 出版日期:
文章二维码

漂浮通知

①《半导体光电》新近入编《中文核心期刊要目总览》2023年版(即第10版),这是本刊自1992年以来连续第10次被《中文核心期刊要目总览》收录。
②目前,《半导体光电》已入编四个最新版高质量科技期刊分级目录,它们分别是中国电子学会《电子技术、通信技术领域高质量科技期刊分级目录》(T3)、中国图象图形学学会《图像图形领域高质量科技期刊分级目录》(T3)、中国电工技术学会《电气工程领域高质量科技期刊分级目录》(T3)和中国照明学会《照明领域高质量科技期刊分级目录》(T2)。
③关于用户登录弱密码必须强制调整的说明
④《半导体光电》微信公众号“半导体光电期刊”已开通,欢迎关注