六方氮化硼忆阻器的研究进展
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作者:
作者单位:

(吉林大学 电子科学与工程学院, 长春 130012)

作者简介:

王思博(1998-),男,吉林省长春市人,硕士,主要从事六方氮化硼忆阻器方面的研究;

通讯作者:

中图分类号:

TN389;O482.4

基金项目:

国家自然科学基金项目(62174066).通信作者:陈占国


Research Progress of Hexagonal Boron Nitride Memristor
Author:
Affiliation:

(School of Electronic Science and Engineering, Jilin University, Changchun 130012, CHN)

Fund Project:

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    摘要:

    六方氮化硼是一种与石墨烯结构相似的材料,以六方氮化硼作为阻变介质层的忆阻器,具有良好的散热性能,不易发生介电击穿,能够实现小尺寸、低功耗和大的开关比;在计算机运算存储研究、人工神经网络和神经形态(即类脑)计算领域有极大的应用前景。文章主要介绍了忆阻器的分类,分析了六方氮化硼忆阻器的阻变机制,综述了六方氮化硼忆阻器的研究现状。最后,指出了六方氮化硼忆阻器当前面临的挑战,并展望了未来的发展方向。

    Abstract:

    As a graphene-like structural material, hexagonal boron nitride (h-BN) possesses many superior properties. Owing to their enhanced qualities such as simple device structure, low power consumption, and good scalability potential, h-BN memristors are receiving increasing attention and are currently considered to hold great application prospects in the fields of computing and storage, artificial neural networks, and neuromorphic computing. In this paper, a classification of memristors is introduced, the resistive switching mechanism of the h-BN memristor is discussed, and the research status of the h-BN memristor is reviewed. Finally, the current challenges of the h-BN memristor are pointed out, and the paper concludes with an outlook of the future direction of development.

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

王思博,刘晓航,陈占国.六方氮化硼忆阻器的研究进展[J].半导体光电,2024,45(1):11-18. WANG Sibo, LIU Xiaohang, CHEN Zhanguo. Research Progress of Hexagonal Boron Nitride Memristor[J].,2024,45(1):11-18.

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  • 收稿日期:2023-10-09
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  • 在线发布日期: 2024-04-03
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