三维紧凑型半球凹坑阵列玻璃基在非晶硅薄膜电池中的应用
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Research on Light trapping of Three-dimensional Photonic Crystal Glass Substrate Used in Amorphous Silicon Thin Film Solar Cells
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    研究了一种紧密型半球凹坑阵列光子晶体玻璃基,并将其运用在非晶硅薄膜太阳电池结构。用FDTD方法对玻璃基进行了透射衍射场分布计算,用RCWA方法对基于此基底的非晶硅薄膜结构进行仿真优化,得到了0.6μm周期、最小基底厚度0.6μm的优化结构,与平板结构相比较0.3~0.8μm波段平均反射率降低了51.5%,平均吸收率增加了18.6%。薄膜电池结构随入射角度的增大,反射率峰值发生蓝移且明显降低,在50°~65°入射角范围内全波段具有约6%的平均反射率。

    Abstract:

    A kind of close photonic crystal hemisphere pits array glass substrate applied in amorphous silicon thin film solar cells was studied. FDTD method is applied to make transmission diffraction field distribution calculations of the glass substrate. RCWA method is used to optimize the geometric parameters of the glass substrate, and an optimized configuration of 0.6μm period and 0.6μm minimum substrate thickness were obtained. Compared with flat structure, average reflectivity is reduced by 51.5% and the average absorption rate is increased by 18.6% within 0.3~0.8μm bandwidth. With the increase of the incident angle, the reflectivity peak blue shifts and decreases significantly. It achieves about 6% average reflectivity within 50o~65°incident angle.

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  • 收稿日期:2012-06-26
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  • 在线发布日期: 2013-04-22
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